Fincommp.ru Профессор Цумору Синтаке (Tsumoru Shintake) из Окинавского института науки и технологий предложил совершенно новый и значительно упрощенный инструмент для фотолитографии в экстремальном ультрафиолете (EUV), благодаря которому стоимость производства микросхем станет значительно ниже.
Его сканер отличается от других использованием лишь двух зеркал вместо шести. Оптический тракт нового сканера позволяет более чем 10% начальной энергии достигать пластины по сравнению с примерно 1% в текущих инструментах EUV-литографии, что является крупным прорывом. Более того, новое решение снижает энергопотребление всего сканера: если традиционные сканеры требуют более 1 МВт мощности, то новый инструмент требует менее 100 кВт, что приводит к меньшим затратам на систему охлаждения.
По предварительной оценке, разрабатываемый сканер будет стоить менее $100 миллионов, в то время как аналогичные решения конкурентов обходятся в $200 миллионов. На данный момент новый инструмент для работы с EUV-литографией был протестирован в программном обеспечении для оптического моделирования, где подтвердил возможность создания передовых микросхем. Неизвестно, когда он будет доступен в коммерческом виде, но уже сейчас Окинавский институт науки и технологий подал патент на разработку.